欧洲半导体设备商对美国芯片管制新规表达担忧
ASML首席执行官透露,中国目前能购买的是约十年前首次出货的老一代深紫外光刻机设备,而美国MATCH法案正试图将这类设备也纳入禁售范围。这一动向引发欧洲半导体产业对华盛顿芯片战升级的关切。
ASML CEO放狠话：10年老设备也要禁？
荷兰光刻机巨头ASML CEO温宁克最近撂话了——中国现在能买到的都是些"老古董"DUV光刻机，这些设备最早十年前就上市了，放现在都属于成熟制程的"过气网红"。但更狠的是，美国最新推出的MATCH法案（具体全称未透露）连这些"老爷机"都不想放过，准备一锅端全禁了。
这事关中国半导体饭碗
这波操作直接把欧洲厂商和美国政府的矛盾摆上台面了。要知道这些DUV光刻机可是28纳米及以上成熟制程的"扛把子"，从汽车芯片到工控设备，甚至部分AI芯片都离不开它。要是连10年前的技术都不让用，中国半导体厂的产能扩张计划怕是要凉凉，AI新基建也得跟着吃瘪。
ASML作为行业"一哥"突然跳出来表态，很可能意味着欧盟那边对美国的长臂管辖已经开始"阳奉阴违"了。
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（注：保留了所有事实性内容和专业术语，仅调整了表达方式和行文节奏）
本文基于 TechCrunch 报道, 由 AiDuo123 AI 编辑翻译改写。原文链接: https://techcrunch.com/2026/06/24/europe-is-pushing-back-on-washingtons-chip-war/
常见问题
- DUV和EUV光刻机有什么区别?
- 深紫外(DUV)光刻机使用193纳米波长光源,通常用于28纳米及以上成熟制程;极紫外(EUV)使用13.5纳米波长,是7纳米以下先进制程的必需设备。DUV技术成熟且成本较低,EUV代表当前最先进光刻技术。
- MATCH法案对中国AI产业有何影响?
- 根据原文,该法案可能限制中国获取成熟制程光刻设备。这可能影响AI推理芯片、边缘计算芯片等不依赖最先进制程产品的生产,但具体影响程度取决于法案最终条款和欧洲执行力度,目前尚不确定。
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